微软公司宣布不再支持你正在使用的 IE浏览器，这会严重影响浏览网页，请使用微软最新的Edge浏览器
微软公司宣布不再支持你正在使用的 IE浏览器，这会严重影响浏览网页，请使用微软最新的Edge浏览器
微软公司宣布不再支持你正在使用的 IE浏览器，这会严重影响浏览网页，请使用微软最新的Edge浏览器
一直以来，台积电似乎十分热衷于EUV紫外光刻与10nm制程芯片技术讨论。但也仅仅限于谈论而已，因为目前的技术水平还无法实现这种扫描光刻技术，至少要再等待1-2年才能看到利用这种技术制造的芯片实物。但是台积电肯定不会将目光一直放在10nm上，其真正感兴趣的恐怕是5nm制程领域。
超紫外线光刻技术的扫描光刻设备配备了带为13.5nm波长的激光，在基板进行“画”芯片的过程中拥有非常精细的特点，能解决目前正在使用的光刻工具许多具备挑战性的技术难关，特别是EUV能进行多模式刻画能减少时间周期，有助于提升工艺制作的芯片产量。
按照计划，台积电将在未来的两到三年内将EUV扫描光刻技术应用在7nm领域，荷兰ASML正在与台积电和其他芯片制造商准备全新的EUV扫描光刻设备。目前台积电已经确定在2018年大面积批量生产7nm制程芯片，EUV的应用可能在2018-2019开始试生产使用在5nm制程芯片。
声明：本内容为作者独立观点，不代表电源网。本网站原创内容，如需转载，请注明出处；本网站转载的内容（文章、图片、视频）等资料版权归原作者所有。如我们采用了您不宜公开的文章或图片，未能及时和您确认，避免给双方造成不必要的经济损失，请电邮联系我们，以便迅速采取适当处理措施；欢迎投稿，邮箱∶editor@netbroad.com。
| 微信关注 | ||
 |
| 技术专题 | 更多>> | |
 |
| 2024慕尼黑上海电子展精彩回顾 |
 |
| 2024.06技术专题 |
| 电子行业原创技术内容推荐 | |
 |
互联网违法不良信息举报
Reporting Internet Illegal and Bad Information
editor@netbroad.com
400-003-2006
直播 
