我们目前用的是非隔离式MOSFET 内建(4/6A)的架构 以Floating GND 架构为主, 测过O2及Leadtrend 的同样架构(MOSFET 包在IC), EMI 都不是很好解. 需加许多EMI零件.
请建议 非隔离+PFC 以floating GND 架构的IC ? 并内建EMI 对策, 以便减少零件数量.
我们目前用的是非隔离式MOSFET 内建(4/6A)的架构 以Floating GND 架构为主, 测过O2及Leadtrend 的同样架构(MOSFET 包在IC), EMI 都不是很好解. 需加许多EMI零件.
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