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有关AE电镀电源和ENI电镀电源

AE电源广泛应用于以下制造市场,包括:
◆半导体(铜、铝、钽、钛以及更新的异类材料)
◆平板显示器(薄膜晶体管、彩色滤光片、有机 LED)
◆数据存储(光存储、磁存储以及磁光存储相结合)
◆太阳能光伏电池(透明导电氧化物和硅沉积)
◆玻璃镀膜、装饰薄膜及硬质薄膜
◆光学器件
◆先进产品应用(用于光学装置、工具涂层、塑料等的薄膜)



ENI牌直流/脉冲功率电源 ,应用于生产集成电路,半导体,光电器件,存储媒体(如光牒,光磁性材料) ,平板显示器及增强涂料,以优弧控制线路和0.01%低偏差率(重复性)改善整体流程.蚀刻等离子体产生器(RPG)能为物理气相沉积(PVD),化学气相沉积(CVD)偏压及增强涂料应用提供非对称双极或单极脉冲电流. 蚀刻等离子体产生器能够消除限制因素,使现有的物理气相沉积工具制造出符合”下一代技术”需要的高质量,低损耗的薄膜产品.

ENI牌射频功率电源
ENI牌射频电源提供高可靠的固态电源,其频率从 1MHz 到 60MHz, 功率从 3 百瓦至 13千瓦,还可选自动频率调谐,广泛地应用于 Etch, CVD 和 PVD等工艺.

详细资料请查看 www.aeni.com.cn
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