众所周知，生产芯片是一个复杂且要求严格的过程，在芯片的生产过程中我们要求在超净室中完成，可以保证芯片在生产过程中不被污染。今天在这篇文章中，就来介绍超净室。
超净室中的几个特点：
1. 超净：
环境、操作者、工艺三方面的超净，如超净室，ULS在100级超净室制作，超净台达10级(后面会解释什么含义)
2. 超纯:
指所用材料方面，如衬底材料、功能性电子材料、水、气等;si、Ge单晶纯度达11个9。
3. 高精度:
光刻图形的最小线条尺寸在深亚微米量级，制备的介质薄膜厚度也在纳米量级，而精度更在上述尺度之上。
4. 大批量、低成本:
如此高的高科技生产过程是高成本，还要使得芯片单颗低成本出售，必须保证芯片是被大量生产的。
超净室的一些图片：
超净室洁净程度的标准：
洁净工作室的洁净度（级别数）由空气中的微粒大小和微粒含量决定的，是指在一立方英尺中含有直径为0.5微来或更大的颗粒总数。只有各个大小的颗粒均满足标准才可以认为是超净室达到了此级别，如下图所示：
小知识：一般城市空气中通常包含烟、雾、气，每立方英尺多达500万个颗粒，所以是500万级
再把中国超净室的标准贴一下：好像更严格。
超净室所使用的超净材料：
1. 超纯的半导体材料，目前纯度已达到99.99999999999%，即11个9，记为11N
2. 功能性电子材料，如:Al、Au等金属、杂用气体、外延气体等必须是高纯度材料
3.所用化学试剂、器皿、器具等的杂质含量必须低
4. 芯片清洗用水是高纯度的去离子水，一般用电阻率来表示，超大规模集成电路纯用水的电阻为18MQ/cm。
超净室所使用的光刻机:
关于超净室到此为止就差不多了，如果喜欢本篇文章欢迎点赞收藏分享，我会继续更新此类文章，谢谢！