真空镀膜工艺中的三温区法是怎么回事

真空镀膜工艺简单,要求真空度高,要有10的负次方才能镀的牢固有光泽.没听说过三温区.主要是电极的低压大电流产生的高温熔化铝丝.别无高温.外壳最好用水冷却.

关于半导体镀膜工艺中,我们现在要的是InSb,看过一篇国外的资料有过,是个日本人写的,他用的三温区法

你要镀什么?镀眼镜片我倒是会,用的是氧化锆和氟化镁.400度高温,真空度好像是1.3x10的负10次方吧.,用钨片和钼片盛放氧化锆和氟化镁.通12V低压电流可调的300A电流源,使化学材料蒸发镀到镜面上.要求镜面极其干净.

给大家参考一下.

请教:镀膜时有一个“轰击”的工艺是干吗的?好象是在抽完真空后的一项工艺,当轰击时能看到内部有辉光的感觉.

您好,有急事向您请教,希望能联系上您,谢谢,我的电话13564516979,李生

联系哪一个?